潔凈室**主要的功能是提供生活和生產(chǎn)所需的健康環(huán)境，營造出滿足照明度、溫濕度、噪聲、氣流、壓力、靜電和微振動等健康指標的環(huán)境，使的服務(wù)和產(chǎn)品能夠滿足人們對健康環(huán)境的需求，提供良好的、可控的空間環(huán)境，從而有效地提升產(chǎn)品的合格率，全面提升和改善服務(wù)質(zhì)量的目標。

因此，潔凈室中要控制的因素很多，下面就來總結(jié)潔凈始終溫濕度、氣壓、氣流速度的主要要點。

潔凈室中的溫濕度控制

潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應(yīng)考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。

凈化工程具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小。直徑100um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以應(yīng)該有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以后，對產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車間，這種車間不宜超過25度。

濕度過高產(chǎn)生的問題更多。相對濕度超過55%時，冷卻水管壁上會結(jié)露，如果發(fā)生在*密裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學(xué)吸附在表面*難以清除。相對濕度越高,粘附的難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對于硅片生產(chǎn)**佳溫度范圍為35—45%。

潔凈室中的氣壓規(guī)定

對于大部分潔凈空間，為了防止外界污染侵入，需要保持內(nèi)部的壓力(靜壓)高于外部的壓力(靜壓)。壓力差的維持一般應(yīng)符合以下原則：

(1)潔凈空間的壓力要高于非潔凈空間的壓力。

(2)潔凈度**高的空間的壓力要高于相鄰的潔凈度**低的空間的壓力。

(3)相通潔凈室之間的門要開向潔凈度**高的房間。

壓力差的維持依靠新風(fēng)量，這個新風(fēng)量要能補償在這一壓力差下從縫隙漏泄掉的風(fēng)量。所以壓力差的物理意義就是漏泄(或滲透)風(fēng)量通過潔凈室的各種縫隙時的阻力。

潔凈室中的氣流速度規(guī)定

這里要討論的氣流速度是指潔凈室內(nèi)的氣流速度，在其他潔凈空間中的氣流速度在討論具體設(shè)備時再說明。

對于亂流潔凈室由于主主要靠空氣的稀釋作用來減輕室內(nèi)污染的程度，所以主要用換氣次數(shù)這一概念，而不直接用速度的概念，不過對室內(nèi)氣流速度也有如下要求;

(1)送風(fēng)口出口氣流速度不宜太大，和單純空調(diào)房間相比，要求速度衰減更快，擴散角度更大。

(2)吹過水平面的氣流速度(例如側(cè)送時回流速度)不宜太大，以免吹起表面微粒重返氣流，而造成再污染，這一速度一般不宜大干0.2m/s。

對于平行流潔凈室(習(xí)慣上稱層流潔凈室)，由于主要靠氣流的“活塞打擠壓作用排除行染，所以截面上的速度就是非常重要的指標。過去都參考美國20gB標準，采用0.45m/s.但人們也都了解到這樣大速度所需要的通風(fēng)量是*的，為了節(jié)能，也都在探求降低速一風(fēng)速的可行性。

在我國，《空氣潔凈技術(shù)措施》和<潔凈廠房設(shè)計規(guī)范))都是這樣規(guī)定的：

(1)垂直平行流(層流)潔凈室≥0.25m/s

(2)水平平行流(層流)潔凈室≥0.35m/s